Компания canon демонстрирует первые чипы, изготовленные при помощи 11-нм технологии нанопечати

На выставке Canon Expo 2015 Tokyo, которая проходила в рамках форума Tokyo International Forum с 4 по 6 ноября 2015 года, представители компании Canon Inc показали первые полупроводниковые чипы, изготовленные при помощи 11-нанометровой промышленной технологии нанопечатной литографии (nanoimprint). И, в соответствии с имеющейся информации, эта разработка уже практически находится на стадии готовности к ее применению в изготовлении полупроводниковых приборов и устройств следующих поколений.

Нанопечатная литография – это разработка, разрешающая организовать элементы электронных приборов и схем на кремниевом либо втором основании при помощи особого штампа. Существующие разработки, основанные на простой литографии, сталкиваются с ограничением минимальных компонентов и размеров элементов, каковые накладываются длиной волны применяемого света, и в данное время они уже практически близко приблизились к пороговому значению собственной разрешающей способности. Иначе,

у технологии нанопечати нет никаких явных ограничений, которые связаны с длинами волн света, что в теории может разрешить при помощи таких разработок создавать сколь угодно малые элементы.

направляться подчернуть, что эксперты компании Canon Inc продолжают разработку разработок нанопечати совместно со экспертами компании Toshiba Corp. Такое сотрудничество есть успешным, о чем свидетельствуют первые пластины с 11-нм чипами, произведенные в Японии, а в скором времени обе компании сосредоточат свои силы на коммерциализации созданных ими разработок.

Рис. 1.

Первые опытные образцы оборудования, применяющего разработку нанопечати по нормам 20, 16 и 11-нм техпроцессов, готовьсяи посланы производителям полупроводниковой продукции в 2016 году. А полная доводка этих новых техпроцессов до отметки их массового применения будет закончена в срок от одного до полутора лет. Так, возможно сохранять надежду, что

первые чипы, изготовленные при помощи 11-нанометровой наноппечатной литографии, покажутся на рынке в 2017 году, в случае если на протяжении работы над ними не случится ничего феноменального.

Наверное, что первые образцы оборудования, применяющего разработку нанопечати, будут употребляться для производства чипов NAND флэш-памяти, производство которой есть достаточно сложным. направляться отметить, что

разработка нанопечати имеет более низкую производительность, чем простая литография. Но новое технологическое оборудование будет намного боле компактным и недорогим, так, производители, увеличивая количества собственного производства, смогут организовать параллельную работу нескольких линий без очень больших затрат.

А в будущем, в то время, когда будут решены кое-какие из основных неприятностей разработки нанопечати, заключающиеся в наличии на кристалле остаточной пыли и некоторых недостатков, эту разработку возможно будет применять не только для производства флэш-памяти, но и для производства чипов цифровых логических микросхем, среди них и процессоров.

Случайные записи:

• В мире начнут работать несколько альтернативных электростанций
• Коллаборация ligo зафиксировала сигнал гравитационных волн

Intel Kaby Lake, Coffee Lake, Canon Lake… когда уже 10нм? И что там с Nvidia Volta и Note 7

Похожие статьи, которые вам понравятся:

• Ученые научились печатать при помощи лазера кремниевые электронные схемы прямо на бумаге

  Область печатаемой электроники, развивающаяся бурными темпами сейчас, уже разрешает создавать эластичные электронные схемы, дисплеи, каковые возможно…

• Новая технология позволяет превратить тепло в электричество при помощи электрохимических реакций

  Ежегодно эксперты Ливерморской национальной лаборатории имени Лоуренса (Lawrence Livermore National Laboratory) воображают результаты собственных…

• Компания hypersciences планирует добраться до источника геотермальной энергии при помощи огромной пушки

  Фактически всем как мы знаем, что в нескольких тысячах метров ниже поверхности Почвы находится громадный «океан» тепловой энергии. И чтобы добраться и…

• В сфти нияу мифи полным ходом идут работы по созданию центра аддитивных и лазерных технологий в рамках проекта «новые кадры опк россии»

  В сентябре 2015 г. этот проект Снежинского филиала НИЯУ МИФИ был отобран в числе 20-ти победителей среди всех институтов России. На реализацию проекта в…