-
Рулонная печать интегральных микросхем
15.03.2017
Hi-tech
-
Нанопечатная литография сейчас рассматривается экспертами в качестве одного из самых перспективных в будущем способов изготовления интегральных микросхем. Эта разработка не имеет ограничений в плане миниатюризации, что выгодно отличает ее от оптической литографии, которая уже сейчас приближается к своим границам применимости.
При нанопечатной литографии используется способ «выдавливания» определенного рельефа на подложке с последующим формированием нужных для функционирования микросхемы структур. Данный способ изначально разрабатывался в качестве варианта для предстоящей миниатюризации интегральных микросхем, в то время, когда другие способы себя исчерпают. В числе разработчиков технологи выступала и компания Molecular Imprints, которая и сейчас продолжает изучения в этом направлении.
Но, у нанопечатной литографии имеется значительный недочёт – до тех пор пока нереально «печатать» интегральные микросхемы на подложке громадной площади. В случае если с громадным числом миниатюрных по размерам микросхем в полной мере вероятно использовать «печать» площадью пара сантиметров, и повторять процесс печати пара раз, то во многих случаях таковой подход оказывается неприемлем.
Как пример возможно привести такие устройства, как солнечные батареи и дисплеи – в этом случае подходящим вариантом выясняется печать интегральных микросхем на подложке громадной площади с последующим разрезанием подложек на страницы нужных размеров.
Ответом данной неприятности занялся доктор наук Мичиганского Университета Джей Гуо (Jay Guo). Им был предложен способ рулонной нанопечатной литографии, в то время, когда печатающее устройство является роликомс полимерным покрытием, имеющим нужный рельеф. С его помощью рельефный рисунок переносится на резистивный материал, которым покрывают подложку для обработки и формирования нужной полупроводниковой структуры интегральной микросхемы.
Сейчас установка разрешает «печатать» рельефный рисунок будущей интегральной микросхемы на подложке размером не более 15 сантиметров, да и миниатюризация пока не дотягивает до современного уровня – при помощи предложенной техники до тех пор пока вероятно изготовлять 50-нм микрочипы. Такие параметры очевидно ограничивают область применения рулонной нанопечатной литографии. Но, с одной стороны, кроме того такие характеристики разрешают изготовлять множество оптоэлектронных устройств, а с другой, исследователи отнюдь не останавливаются на достигнутом – в будущем планируется значительно модернизировать разработку нанопечатной литографии.
В целом, реакция экспертов на предложенную доктором наук Джем Гуо методику изготовления интегральных микросхем хорошая. Отмечается не только возможность предстоящего усовершенствования установки, но и возможность понижения себестоимости продукции. Об хорошем потенциале рулонной нанопечатной литографии говорит и тот факт, что исследователи заручились помощью последовательности компаний, заинтересованных в разработке новейшего способа изготовления полупроводниковых устройств, и желающих в будущем внедрить новую разработку в производственный цикл.
Случайные записи:
Производство интегральных микросхем
Похожие статьи, которые вам понравятся:
-
Разработана новая технология трехмерной печати металлических изделий
Несколько инженеров из Ливерморской Национальной лаборатории имени Лоуренса (Lawrence Livermore National Laboratory, LLNL) создала новую разработку…
-
Северная корея продемонстрировала передовой дизайн 3d-принтера для печати костей
Корейская Народно-Демократическая Республика укрепляет лидирующие позиции на рынке аддитивных разработок. В этом случае передовики северокорейского…
-
В тверском кремле нашли печать первого местного князя
На протяжении раскопок в Тверском кремле археологи нашли две печати древнерусских князей: печать первого тверского киевского Ярослава князя и князя…
-
В новгороде найдена печать посадника-реформатора xiv века
Историки обнаружили печать Онцифора Лукинича, что руководил войском новгородцев, разбивших шведов в 1347–1348 годах, и совершил реформу национальной…
-